列    TWINS系列    目前已经商用的最先进机型是TwinsXT 1950i，属于沉浸式光刻机，用来生产关键尺度低于38纳米的集成电路。    ASML正在加紧研制基于极紫外（EUV）光源的新型光刻机，型号定为NXE系列。如果量产成功，将成为划时代的产品，有望将关键尺寸缩小至10nm以下，并且可以显著提高集成电路质量。    除了目前致力于开发的TWINS平台外，ASML还在积极与IMEC， IBM等半导体公司合作，开发下一代光刻技术，比如EUV（极紫外线光刻），用于关键尺度在22纳米甚至更低的集成电路制造。目前ASML已经向客户递交若干台EUV机型，用于研发和实验。同时，基于传统TWINS平台的双重曝光等新兴技术，也在进一步成熟和研发过程当中。07年末三星(Samsung)宣布成功生产的36纳米闪存，基于的便是双重曝光技术。    市场份额编辑    目前市场上提供量产商用的光刻机厂商有三家：ASML、尼康(Nikon)和佳能()。根据2007年的统计数据，在中高端光刻机市场，ASML占据大约60%的市场份额。而最高端市场（例如沉浸式光刻机），ASML大约目前占据80%的市场份额。不过，竞争对手尼康也在奋力追赶，主要优势在于相对较低的价格。    对华合作编辑    ASML一直致力于中国市场的拓展与合作，包括香港在内目前已经在北京、上海、深圳、无锡等地开设分公司，为客户提供及时的服务和咨询。随着公司业务的扩大和中国半导体产业的发展，相信大连、成都、重庆、武汉等新兴的半导体基地也会纳入ASML的版图之内。ASML有信心和中国半导体从业者一道，为技术创新和市场拓展开辟道路。目前ASML已经与浙江大学、大连理工大学、哈尔滨工业大学、上海交通大学等著名高等学府签定奖学金及科研合作协议，为培养本地人才，做出自己的一份贡献。    2020年10月，阿斯麦光刻机在中国大陆地区大大小小装机有700台，2020年第二、第三季度，公司发往中国大陆地区的光刻机台数超过了全球总台数的20%。[3]    2020年第三届进博会上，光刻机巨头ASML也参展了，并且还在自己的展台上晒出展示了光刻机。[4]    所获荣誉编辑    2019年10月，位列2019福布斯全球数字经济100强榜第50名。[5]</p>飘天文学_www.piaotiange.com

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