这光刻机的原理说起来确实简单，那么制作的难度应该不是很大吧？

    然而事实却不是这样的。

    就目前而言，国内自主生产的光刻机最多只能进行16纳米的制作工艺，而且还无法成熟的商用，能成熟运用的仅仅是28纳米。

    而阿姆斯公司生产的光刻机却是能将10纳米制程的技术进行商用了，更甚至他们已经能进行7纳米制作工艺，而且已经快趋向于成熟了。

    可能要不是现有的硅基材料的物理性质的限制，他们怕是已经突破了7纳米，从而达到5纳米的制程技术。

    况且他们声称，已经找到了新的材料，有望打破芯片的物理桎梏。

    到那个时候，我们想要有自己的芯片技术，想要有自己的操作系统，想要自己的喉咙不再被对方给遏制住，可能又会难上几分了。

    终其原因，就是因为这小小的光刻机了，半导体行业的灵魂设备。

    虽然它的原理确实简单，只要那么稍微一了解就会明白，但是想要把它做的和他们的一样好，甚至超过他们，那可就难了。

    众所周知，光刻机是用光波来做为刻刀，进行芯片里逻辑电路的刻画工作的。

    但光波是有长短的，就相当于刻刀一样，波长越短的波就越是锋利，而越是锋利的刻刀就越能刻出更精细的电路图案。

    而在芯片的制作中，因为工艺的需求，人们对光波长度的需求也是越来越短了。

    所以阿姆斯公司所采用的光是光谱里光波最短的光里的一种，极紫外光，它是紫光里的一员，但却不是可见光。

    因为它的光波只有10至14纳米的长度，这是人眼根本无法分变的波长。

    而这种光波却是很难被聚焦，或者说普通的凸镜无法让它聚焦，需要使用特殊的凸镜。

    对于这种难题阿姆斯公司可是足足投资了数十上百亿美元，才研发出来了新的产品。

    而我们国内，对于这方面的困境却还没有找到出路，不是镜片的精细程度不够，就是材质不对，始终无法让它达到理想的效果。

    从而导致了制作不出先进光刻机的局面，也导致了国内芯片行业萎靡的状态。

    “唉！几十年的技术差距，可不是一朝一夕就能解决的。”李阳想到这些不由叹息道。

    他知道，面对着几十年的技术差距，在科学家、研究员们呕心沥血、夜以继日的努力下终于缩短到了两代的技术差距，可以说是进步神速了。

    但是，仅仅是勉强追上他们的脚步，和他们还差着两代的差距就够了吗？

    不够！只要没有超过他们，没有比他们强就远远不够！

    看着眼前正在初级机床里加工的“璃”，李阳不由的暗暗的捏紧了拳头，这是生产光刻机的必须材料！

    因为他准备生产的光刻机和国外的有些不一样，他的光刻机使用的是伽马射线来作为刻刀！

    伽马射线是光波！

    这是李阳获得的技术资料里提到的，他们认为伽马射线的光子不带电子所以是光波。

    至于为什么它的穿透力那么强？

    那是因为伽马射线的波长很短，仅仅只有001埃，而一般原子的内部原子核和电子的距离，以及原子和原子的距离太大了，对于它们来说就像是地球和月亮的距离一样广阔，所以他们可以从容的通过这些空隙。

    这是他们研究出了“璃”这种材料后得出的结论，因为他们发现“璃”可以对伽马射线进行折射、衍射及聚焦。

    而且他们还在“璃”的伴生品中发现了两种材料，一种的原子结构非常的秘籍，可以完全的阻拦伽马射线的穿透，另外一种则是对伽马射线十分的敏感，只要被照射到马上就会进行

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